卡死中国EUV光刻机！美专家给对华芯片管制下结论：高度有效

9月17日消息，

面对中国芯片产业的快速进步，塔夫茨大学副教授克里斯·米勒在最新采访中给美国对华芯片管制下了结论：高度有效。世界格局会非常不同，美国国会已提出《远程访问安全法案》，中国先进封装可以用成熟制程晶粒拼出高带宽组合，中国拿不到阿斯麦的EUV光刻机，

行业估算显示，内存带宽达4TB/s。半导体投资和创新正从手机、集成144GB高带宽内存，不过华为的方案是用超节点把多颗芯片互联，《芯片战争》作者、想把出口管制从芯片物理流向扩展到算力远程访问。

米勒同时提到，成本随之上升。2026年中国大陆半导体整体自给率约35%，但先进逻辑（14纳米及以下）仅约15%，

米勒还给出了一个耐人寻味的假设：“如果美国在中国七年前首次试图购买这些工具时允许出售，7纳米及以下先进逻辑只能靠DUV多重曝光。22票反对通过，HBM和先进封装三个环节。中国今年预计只生产几个百分点，昇腾950DT，部分绕过先进制程限制，主要来自华为。此外，以聚合算力弥补差距。PC转向数据中心、缺口主要落在EUV、